上海星临环保科技有限公司

芯片清洗用超纯水设备参数：

原水：自来水、井水、地下水、中水；
进水压力：0.2~0.3MPa；
运行压力：0.3~1.5MPa；
脱盐率：＞99%；
控制：全自动控制/手自一体化自动切换；
产水量：0.25~200T/H(根据客户需求而定)；
材质：PVC/304/316L/FPR；
工艺：反渗透膜分离+电去离子(EDI)；
产水电阻率：18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、5MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm等；

芯片清洗用超纯水设备优点：

1.RO膜自动、手动冲洗
2.纯水高位自动停机，低水位自动开机
3.多级泵缺水保护
4.失压、欠压、过流、短路、断路、漏电保护