上海星临环保科技有限公司

常规工艺参考：

半导体生产用超纯水设备概述：

半导体生产用超纯水设备配件材料和耗材均采用国际主流先进可靠产品，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

半导体生产用超纯水设备参数：

原水：自来水、井水、地下水、中水；
进水压力：0.2~0.3MPa；
运行压力：0.3~1.5MPa；
脱盐率：＞99%；
控制：全自动控制/手自一体化自动切换；
产水量：0.25~200T/H(根据客户需求而定)；
材质：PVC/304/316L/FPR；
工艺：反渗透膜分离+电去离子(EDI)；
产水电阻率：18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、5MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm等；